P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded interface trapped charge

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interface trapped charge

6-0703 (Reapproved 0218)

11-1106 (technical revision)

1で規格化されていないその他の耐食性合金およびそれらの溶接部にも使用できる。

Define and develop lithography alignment strategy for C2C

P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded interface trapped chargeglobal Micropatterning Committee2008118global Audits and Reviews Subcommittee20082www. semi. org20083CD ROM20043200511 2001SEMIData Path Task ForceGDSIIGDSIIIC201632 GDSII1 163264 SEMI Data Path Task ForceInternational SematechEDASematech Referenced SEMI Standards None.

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