P04700 - SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 StdPbc-0218 equipment and testing to ensure

equipment and testing to ensure an unified terminology for this technology

orgで入手可能となる。前版は2012年4月発行。

The successor format was chartered with several overall goals:

SEMI C23-0301 (technical revision)

本試験方法は，一辺の長さが125ｍｍ以上で，厚さが100μm 以上の正方形および擬似正方形の太陽電池シリコンセルを対象とする。

P04700 - SEMI P47 - ラインエッジラフネス（Line Edge Roughness）およびライン幅ラフネス（Line Width Roughness）測定の試験方法 StdPbc-0218 equipment and testing to ensureglobal Microlithography Committee20061121global Audits and Reviews Subcommittee20072www. semi. org20073CD ROM IC Referenced SEMI Standards SEMI P19 Specification for Metrology Pattern Cells for Integrated Circuit Manufacture SEMI P35 Terminology for Microlithography Metrology SEMI P36 Guideline of Magnification Reference for Critical Dimension Measurement Scanning Electron Microscopes